Таг: 3Д печатар

Најново од Енаука.мк

Хафниумовиот оксид потврден како редок антифероелектричен материјал

Истражувачи потврдија дека хафниумовиот оксид е природно антифероелектричен, а неговото својство останува стабилно и во слоеви дебели само 0,6 нанометри. Откритието отвора можности за поефикасна меморија, кондензатори и компактни системи за ладење.